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浅析二次元的基本测量原则

更新时间:2019-04-02点击次数:2328
   浅析二次元的基本测量原则
  二次元用于测量二维平面尺寸,广泛应用在各种不同的精密产业中。其主要用于在卡尺、角度尺很难测量到或根本测量不到的但在装配中起着重要的零部件尺寸、角度等,如硅胶、电路板的爬电距离、电器间隙、控制面板的灯孔、塑料件的某些尺寸等等,还可用于对某些零部件的图片进行照片用于分析不良原因。由于影像测量仪是利用表面光或轮廓光照明零件所得到的影像,对零件的测量时需要取点,固并非所有零件采用二次元测量仪测量都是精密的,选取的方法、有效的途径才能对零件的尺寸测量准确。
  在实际测量中,对于同一被测量往往可以采用多种测量方法。为减小测量不确定度,应尽可能遵守以下基本测量原则:
  (1)阿贝原则:要求在测量过程中被测长度与基准长度应安置在同一直线上的原则。若被测长度与基准长度并排放置,在测量比较过程中由于制造误差的 存在,移动方向的偏移,两长度之间出现夹角而产生较大的误差。误差的大小除与两长度之间夹角大小有关外,还与其之间距离大小有关,距离越大,误差也越大。
  (2)二次元基准统一原则:测量基准要与加工基准和使用基准统一。即工序测量应以工艺基准作为测量基准,终检测量应以设计基准作为测量基准。
  仪器特点
  1.高精度花岗岩底座、立柱及横梁,确保*的稳定性及精度。
  2.全铝合金工作台面及双层研磨光学玻璃。
  3.进口高精密P级直线导轨,精密静音研磨丝杆,精度高,定位准。
  4.三轴伺服马达驱动。
  5.*高解析度、高分辨率工业彩色CCD,确保拥有高质量的测量画面。
  6.进口高清晰、高分辨率连续变倍镜头,可随时变换工作倍率。
  7.进口高精密金属光栅。
  8.二次元自动程控分区LED冷光源,可提供多角度照明。
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